SU-8 2000系列光刻胶

Microchem公司的SU-8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，它适于制超厚、高深宽比的MEMS微结构，适合i线，X-Ray，E-beam曝光。具有非常好的热稳定性、抗刻蚀性、高分辨率、高深宽等特点。对近紫外350~400nm波段曝光最为敏感。即使在非常厚的光刻胶曝光情况下，曝光均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。

SU-8 2000系列的特性

1）厚度范围，单层涂胶厚度为 0.5 to > 200 μm

2）高深宽比：>10:1

3）更多挥发性溶剂，与传统去边工艺兼容

4）降低了极性溶剂含量减小表面张力

5）表面活性成分，改善涂覆效果

应用：MEMS，钝化层应用LED微流以及光电子器件制作  

SU-8 2000系列的属性

1）旋转涂层薄膜：<1um to="">75um

2）耐高温、耐化学性

3）光学透明

4）与i-line成像设备兼容

相关溶液：

稀释剂：SU-8 Thiner

显影液：SU-8 Developer

去胶液：Remover PG

增附剂：OmniCoat

一般储存温度：

4-21°C

SU-8 2000化学放大，i-Line抗蚀剂非常适合制造永久性器件结构。这些负性，环氧基抗蚀剂表现出优异的耐化学性和低杨氏模量，这使其成为制造微/纳米结构（如悬臂，膜和微通道）的理想选择。

材料用途：PDMS模具的制造；结构部件，例如微阵列，流体通道，显示器像素壁和介电层等。

Microchem SU-8 2025-2075-2150  同等转速，厚度逐渐提高，可根据自己实验需求选择具体的型号。目前SU-8光刻胶有2000系类和3000系列两类产品，3000系列升级后对光刻胶的粘附力，产品精度等性能进一步完善。