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![有机合成光化学的技术创新五：流动光化学 -光裂解和光脱保护（Photocleavage and Photodeprotection）]()
有机合成光化学的技术创新五：流动光化学 -光裂解和光脱保护（Photocleavage and Photodeprotection）
保护基团在合成有机化学领域，特别是在复杂生物活性分子的全合成中具有不可估量的重要性。 理想的保护基团应具有两个特性：(1) 保护敏感官能团在随后的母体分子修饰过程中免受不希望的反应， (2) 以高产率和选择性安装和去除它。 光裂解是官能团去保护的理想策略，因为它通常与更传统的热或酸碱型去保护策略正交。
2022-03-01
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![热、电化学或相关策略来生成和使用危险试剂和相关反应性中间体]()
保护基团在合成有机化学领域，特别是在复杂生物活性分子的全合成中具有不可估量的重要性。 理想的保护基团应具有两个特性：(1) 保护敏感官能团在随后的母体分子修饰过程中免受不希望的反应， (2) 以高产率和选择性安装和去除它。 光裂解是官能团去保护的理想策略，因为它通常与更传统的热或酸碱型去保护策略正交。
2022-03-01
